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无尘车间生产为什么要控制车间室内的温湿度?

2020-05-04 17:14:32

湿度是操控是wns9778.com生产必需具备的重要条件,相对湿度是无尘车间洁净室运作进程中一个常用的环境操控条件。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约操控在30到50%的规模内,允许误差在±1%的狭隘的规模内,例如光刻区或许在远紫外线处理(DUV)区乃至更小而在其他地方则可放松到±5%的规模内。近年,在这些规则规模中坚持处理空气进程,使咱们必需承担资金和运营本钱。可是为什么值得花费这么多钱用在无尘车间、洁净室中操控相对湿度呢?道理很简单,因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体体现下降的因素,其间包含:1、细菌成长2、工作人员感到室温舒适的规模3、出现静电荷4、金属腐蚀5、水汽冷凝6、光刻的退货7、吸水性细菌和其他生物污染(霉菌,病毒、真菌、螨虫)在相对湿度超越60%的环境中能够活跃地繁衍。一些菌群在相对湿度超越30%时就能够添加。在相对湿度处于40%至60%的规模之间时,能够使细菌的影响以及呼吸道感染降至Z低。      

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相对湿度在40%至60%的规模相同也是人类感觉舒适的适度规模。湿度过高会使人觉得气闷,而湿度低于30%则会让人感觉干燥,皮肤破裂,呼吸道不适以及情感上的不快。     高湿度实际上减小了无尘车间、洁净室外表的静电荷堆集——这是大家希望的成果。较低的湿度比较合适电荷的积江西并成为潜在的具有破坏性的跟电释放源。当相对湿度超越50%时,静电荷开始迅速消散,可是当相对湿度小于30%时,它们能够在绝缘体或许未接地的表成上持续存在很长一段时刻。    相对湿度在35%-40%之间能够作为一个令人满意的折中,半导体无尘车间、洁净室一般都运用额外的操控装置以约束静电荷的堆集。许多化学反响的速度,包含腐蚀的进程,将跟着相对湿度的增高而加速。一切暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的外表都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些外表是由能够与水反响的薄金属涂层组成时,高湿度能够使反响加速。幸运的是,一些金属,例如铝,能够与水构成一层维护形的氧化物,并阻止进一步的氧化反响;但另一种情况是,例如氧化铜,是不具有维护才能的,因而,在高湿度的环境中,铜制外表更容易遭到腐蚀。    

在相对湿度较高的环境中,浓缩水形的毛细管力在颗粒和外表之间构成了连接键,能够添加颗粒与硅质外表的黏附力。这种效应——凯尔文浓缩——当相对湿度小于50%时并不重要,但当相对湿度在70%左右时,就成为颗粒之间黏附的首要力量。到目前为止,在半导体无尘车间、洁净室中Z迫切需要恰当操控的是光刻胶的敏爱情。因为光刻胶相对相湿度极为灵敏的特性,它对相对湿度的操控规模的要求是严格的水准。实际上,相当湿度和温度对于光刻胶稳定性以及J确的尺度操控都是很关健的。乃至是在恒温条件下,光刻胶的粘性将跟着相对湿度的上升而迅速下降。当然,改动粘性,就会改动由固定组分涂层构成的维护膜的厚度。参考两个城市,一个试验证明,相对湿度的3%的变异将使维护厚度改动59.2A。 此外,在高的相对温度环境下,因为水分的吸叫,使烘烤循环后光刻胶胀大加重。光刻胶附首力相同也能够遭到较高的相对湿度的负面影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易,乃至不需要聚合改性剂,如六甲基二硅氮烷(HMDS)。 总而言之半导体无尘车间、洁净室中操控相对湿度不是随意的。可是,跟着时刻的变化,Z好回顾一下常见的被遍及承受的实践的原因和基础。

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